Warum benötigen Wafer-Geräte dünnwandige Präzisionslager mit konstantem Querschnitt?

Die Waferherstellung ist eine Hochpräzisionsindustrie, in der die Anlagen außergewöhnliche Genauigkeit und Stabilität erfordern und häufig im Vakuum oder in Reinräumen betrieben werden. Dies erfordert Lager mit geringem Kontaminationsrisiko und Korrosionsbeständigkeit. Darüber hinaus erfordern Wafer-Handling-Systeme häufig Hochgeschwindigkeitsbewegungen, wodurch Lagersteifigkeit und geringe Reibung entscheidend sind. Reinigungsanlagen erfordern oft wiederholte Präzisionsbewegungen, bei denen Lagergenauigkeit und Langlebigkeit entscheidende Faktoren sind. Im Vergleich zu herkömmlichen Lagern bieten dünnwandige Lager mit konstantem Querschnitt deutliche Vorteile: kompakte Bauweise, leichtes Design, hohe Steifigkeit, geringe Reibung und anpassbare Konfigurationen. Wie erfüllen diese Eigenschaften die Anforderungen der Waferausrüstung? Zum Beispiel:

• Kompakte Abmessungen und reduziertes Gewicht minimieren den Platzbedarf der Geräte und ermöglichen schnellere Handhabungsgeschwindigkeiten
• Verbesserte Steifigkeit und minimierte Reibung gewährleisten Bewegungsgenauigkeit/-stabilität bei gleichzeitiger Reduzierung des Energieverbrauchs
• Korrosionsbeständige Materialien und reinraumkompatible Designs erfüllen die strengen Umweltstandards der Halbleiterfertigung

Diese spezielle Lagertechnologie gleicht die widersprüchlichen Anforderungen an Präzisionsmechanik, Umweltverträglichkeit und Betriebseffizienz in fortschrittlichen Halbleiterfertigungssystemen effektiv aus.